Angriff auf ASMLs Monopol: China zeigt das „Herz“ der Chipmaschine

Ein erst 2024 gegründetes Start-up aus Shanghai fordert die Weltspitze der Halbleitertechnik heraus. Auf der China International Industry Fair hat das Unternehmen Langdao Silex Mitte Oktober 2026 den Prototyp einer eigenen Lichtquelle für die Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUV) vorgestellt. Ohne dieses Bauteil läuft keine Fabrik, die Hochleistungschips fertigt. Peking kommt damit seinem Ziel näher, bei der Chipherstellung nicht mehr vom Westen abhängig zu sein.

Neun von zehn Teilen „Made in China“

Nach Angaben eines Unternehmensvertreters, die eine chinesische Zeitung zitiert, stammen rund 90 Prozent der Komponenten aus heimischer Produktion. Den Großteil der Kernteile habe die Firma selbst entwickelt. Technisch verfolgt Langdao Silex dasselbe Prinzip wie der Weltmarktführer: das sogenannte laserinduzierte Plasma, kurz LPP.

Dabei treffen Laserpulse zehntausendfach pro Sekunde auf winzige Zinntröpfchen. Das entstehende Plasma strahlt Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern ab. Mit diesem Licht lassen sich Strukturen von 7 Nanometern und kleiner auf Silizium belichten. Wer diese Lichtquelle beherrscht, besitzt den Schlüssel zu den Chips, die in KI-Rechenzentren, Smartphones und modernen Waffensystemen stecken.

Große Ankündigung, kleine Leistung

So weit die Ankündigung. Die Zahlen dazu fallen deutlich bescheidener aus. Wie Fachmedien berichten, liefert die Anlage eine EUV-Leistung von etwas mehr als 15 Watt. Kommerzielle Belichtungsmaschinen brauchen dagegen mehrere hundert Watt, und zwar dauerhaft und stabil. Der Prototyp erreicht also nur einen Bruchteil dessen, was in der Massenfertigung nötig ist.

Das Standpersonal räumte das auch ein. Die größten Baustellen seien eine höhere Ausgangsleistung und eine bessere Langzeitstabilität. Bis zur Serienfertigung dauere es laut dem Bericht noch „drei bis fünf Jahre“. Immerhin könne das Gerät schon für Belichtungstests eingesetzt werden. Hinter dem Unternehmen stehen Gründer Wang Hao und ein Team, das aus einem Plasma-Labor der renommierten Tsinghua-Universität hervorgegangen ist.

Warum diese Nachricht auch Deutschland betrifft

Den Markt für EUV-Belichtungssysteme kontrolliert derzeit ein einziges Unternehmen: der niederländische Konzern ASML. Dessen Lichtquellen baut die US-Tochter Cymer. Zwei der wichtigsten Zulieferer sitzen in Deutschland. Trumpf aus Ditzingen liefert den Hochleistungslaser, Carl Zeiss SMT aus Oberkochen sämtliche Spezialspiegel. Ersatz für diese Firmen gibt es Branchenberichten zufolge nicht.

Gerade diese Abhängigkeit will China auflösen. Westliche Exportkontrollen schneiden die Volksrepublik seit Jahren von den modernsten EUV-Anlagen ab. Peking antwortet darauf mit einem staatlich gestützten Programm, das die gesamte Lieferkette ins eigene Land holen soll. Neben der Lichtquelle entwickelt Langdao Silex deshalb auch eigene CO2-Hochleistungslaser, also genau die Technik, in der Trumpf bisher den Ton angibt.

Ein Wettlauf mit offenem Ausgang

Panik wäre verfrüht. ASML hat Jahrzehnte und Milliarden investiert, bevor EUV marktreif war. Ein Vorsprung dieser Größe lässt sich nicht über Nacht aufholen. Allerdings hat China den Westen schon bei Solarmodulen, Batterien und Elektroautos schneller eingeholt, als viele Experten erwartet hatten.

Für Berlin und Brüssel sollte das ein Weckruf sein. Während Europa über Lieferkettengesetze und neue Berichtspflichten diskutiert, verfolgt Peking seine Industriepolitik mit eiserner Konsequenz. Deutschlands Hightech-Perlen sind eines der letzten echten Faustpfänder im globalen Technologiekrieg. Ob die Politik das erkennt, bevor aus 15 Watt eines Tages 250 werden? Daran sind Zweifel erlaubt.